突破衍射极限：Lace Lithography获Atomico等投资，原子束光刻将分辨率提升10倍
一家总部位于卑尔根（Bergen）的芯片制造设备初创公司 Lace Lithography 完成了 3450 万欧元（约合 4000 万美元） 的 A 轮融资，旨在为未来 100 年的芯片生产提供动力。
本轮融资由 Atomico 领投，M12（微软风险投资基金）、Linse Capital、SETT 和 Nysnø 跟投，现有投资者 Vsquared Ventures、Future Ventures 和 Runa Capital 也参与了其中。自两年前成立以来，该公司包括本轮在内的总融资额已超过 5170 万欧元（约合 6000 万美元）。
Lace Lithography 的首席执行官兼联合创始人 Bodil Holst 博士表示：
“随着世界加速迈向更先进的计算领域，传统的微影技术（光刻技术）已无法跟上步伐。Lace 提供了一条根本性的新路径。我们的目标不是取代代工厂的工作流程，而是对其进行强化和扩展。”
该公司由 Holst 博士和 Adrià Salvador Palau 于 2023 年创立，致力于开发 BEUV（超越极紫外光）原子微影系统，以在工业规模上实现量子未来。通过使用原子代替光，该公司声称能将摩尔定律的寿命在现有技术基础上再延长十年。
行业痛点：成本与技术的瓶颈
Atomico 在一篇博文中解释了该公司正在解决的问题：“芯片驱动着整个世界，而制造芯片正变得越来越困难。如今最先进的光刻设备每台成本超过 3.8 亿欧元，下一代设备预计将超过 7 亿欧元。这些设备极其复杂、能耗极高，且仅由单一供应商提供。其结果是，在全球经济的核心环节出现了制造瓶颈，而恰在此时，人工智能正推动着对计算能力的前所未有的需求激增。业界早已预见到这一问题的到来，但此前没有人拿出可靠的解决方案。”
技术突破：从“光”到“原子”
Lace 通过彻底弃用光来解决这一问题。该公司正在开发新一代芯片生产微影技术，利用亚稳态氦原子（metastable helium atoms）代替光线在半导体晶圆上刻画图案。
原子没有光子那样的衍射极限，因此原子束光刻能够达到比当前顶级系统小 10 倍的分辨率，同时成本、能耗和复杂度都更低。该系统能够无缝集成到现有的晶圆厂工作流程中，仅需极少的基建改造。
Atomico 提到：“剩下的难题是掩模设计：其中涉及的数学问题曾被认为是无法解决的。蕾丝光刻利用专有的人工智能驱动算法解决了这一问题，该算法将计算速度提升了超过 15 个数量级。这不是渐进式的改进，而是一种范畴上的飞跃。”
Vsquared Ventures 在领英上发文表示：“通过使用原子束光刻技术，该公司为芯片制造开辟了一条全新的道路，这条道路能够极大地扩展缩放能力，同时将系统复杂性和能耗降低数个数量级。原子的行为类似于波，但波长要短得多，从而能够实现更精细的结构、更强大的芯片，以及大幅降低的能耗。”
该公司目前在挪威、西班牙、英国和荷兰设有运营机构。
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