日本三井化学宣布量产新一代 CNT 光刻薄膜，支持 ASML 新一代光刻机

三井化学从荷兰ASML公司获得EUV曝光用防尘薄膜组件事业的许可证，2021年在岩国大竹工厂率先开始EUV防尘薄膜组件的商业生产，以应对不断扩大的尖端半导体需求。

在对半导体晶片照射光来描绘电路图案的光刻工序中，选择对各曝光波长具有耐光性的膜材料，为了得到高透射率而设计了膜厚的光掩模用防尘罩。保持光掩模清洁，为提高半导体的生产性做出了贡献。

三井化学宣布将在其岩国大竹工厂设立碳纳米管 (CNT) 薄膜生产线，开始量产半导体最尖端光刻机的零部件产品（保护半导体电路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代产品）。

三井化学预期年产能力为 5000 张，生产线预计于 2025 年 12 月完工，可支持荷兰阿斯麦（ASML）将推出的下一代光刻机。

光掩模防尘薄膜（pellicle）用于保护光掩模的清洁，需要高透光率以及长寿命。三井化学 2023 年与比利时微电子研究中心（imec）合作，将共同推进 EUV 碳纳米管光掩模薄膜（pellicle）技术商业化。

那么问题来了，什么是 CNT 薄膜呢？要介绍新材料IT之家这里还需要带大家先了解一下新 EUV 光刻机的能力和需求。

简单来说，下一代 EUV 光刻技术对高数值孔径（NA 值 0.55）、高输出功率 (600W 及更高) 工艺的需求更高，而由新材料制成的薄膜对于承受“能实现此技术所需的苛刻光刻环境”至关重要。

▲ EUV 防护薄膜

▲ 碳纳米管薄膜

为此，三井化学开发出了新款 CNT 薄膜并决定进行量产。据介绍，采用碳纳米管（CNT）材料制造的薄膜，与以往产品相比大幅提高了强度和光的透射率，具有极高的 EUV 透光率（≥94%）。此外，碳纳米管颗粒还能够承受超过 1kW 的 EUV 功率，从而满足未来新一代光刻机的需求。

三井化学希望通过在其产品线中添加使用 CNT 作为膜材料的新一代防护薄膜产品，以及使用硅基膜制成的传统 EUV 防护薄膜，从而有帮助 ASML 提高半导体性能和生产率。

关于三井化学

三井化学株式会社（Mitsui Chemicals, Inc.）是一家日本的跨国化学公司，总部位于东京。它是三井集团的一部分，该集团是一个历史悠久的日本财团，涉及多个行业，包括金融、制造和能源等。

三井化学成立于1945年，经过多年的发展，已经成为全球领先的化工企业之一。公司的产品范围广泛，包括塑料、化学品、医药、农业化学品、高性能材料等。三井化学在研发和创新方面投入巨大，致力于开发新技术和产品，以满足不断变化的市场需求。公司的业务遍及全球，拥有多个生产基地和研发中心。三井化学以其高质量的产品、卓越的客户服务和对环境的承诺而闻名。