EUV 掩膜技术：设备的演变和生态系统

三星电子有限公司
2024年11月

报告亮点

对于 DRAM 和逻辑半导体的创新，EUV 光刻和掩模技术发挥了至关重要的作用。本文将技术创新研究的重点从以业务为中心的视角转移到深入研究 EUV 掩模行业的技术开发和创新过程。它涵盖了光刻技术的趋势、EUV 光刻的意义以及 EUV 掩模技术的进步和发展。该研究重点介绍了 EUV 掩模行业及其领先公司生态系统的特点，分析了先前对这些公司面临的挑战和风险的研究，并调查了成熟技术与新兴技术之间的竞争。利用来自七家领先公司的高级管理人员的调查回复，本文揭示了 EUV 掩模行业成功创新的因素。它还探讨了 EUV 掩模行业的未来考虑因素及其生态系统中的潜在合作策略。