2023 IEEE 国际设备和系统路线图，“光刻和图案化”
电气电子工程师协会
2023年10月
什么是 IRDS™？
IRDS ™是一套预测，是 ITRS 的后继者。其目的是提供清晰的大纲，以简化电子设备和系统开发方面的学术、制造、供应和研究协调。
该路线图的目标如下：
- 通过制定 15 年期的发展路线图来确定与设备、系统和所有相关技术相关的关键趋势
- 确定通用设备和系统的需求、挑战、潜在解决方案和创新机会
- 通过合作活动鼓励全球范围内的相关活动，例如相关的 IEEE 会议和路线图研讨会
光刻和图案化将继续发展，但面临许多挑战。预计 2024 年将推出 0.55 NA 的高 NA 工具。但需要在光源、工具、掩模、材料、计算光刻和控制随机性方面进行改进，以使这些工具能够投入生产使用。预计工艺窗口会很小。迫使使用更薄的光刻胶，也可能需要改进工艺集成方案。高 NA 工具的较小场尺寸对于某些产品设计来说很困难。这可能会刺激许多相对较小的芯片的高性能封装的增长。人们也在考虑实现更大曝光场的大掩模尺寸的方法。需要改进光刻胶和相关材料。但即使有了改进，剂量仍将继续增加，以便能够充分控制随机效应。从长远来看，可以开发出更高 NA 的 EUV（“超 NA”），但这面临许多技术挑战，而且可能不如 0.33 或 0.55 NA EUV 的多重图案化有效。化学放大光刻胶将至少在 1 nm 逻辑节点之前继续成为主力光刻胶，但基于金属的新型光刻胶（湿法和干法沉积）显示出良好的前景。随着世界对环境问题的日益关注，能源效率和化学安全成为关注的焦点。
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