薄膜工艺，第 2 卷 Thin Film Processes, Volume 2

关于本书

这是 1978 年经典著作《薄膜工艺》的续集，对尚未得到充分审查的重要薄膜沉积和蚀刻工艺进行了清晰、实用的阐述。它讨论了教程概述中的选定流程，并提供了实施指南和文献介绍。虽然经过编辑后是独立的，但当放在一起时，Thin Film Processes II 及其前身为现代薄膜技术奠定了全面的基础。

主要特点

• 提供了 1978 年经典作品《薄膜工艺》的全新续集
• 引入了新的主题，并且更新了原始卷中介绍的几个关键主题
• 强调主要薄膜沉积和蚀刻工艺的实际应用
• 帮助读者找到适合特定应用的技术

基本信息

书名：Thin Film Processes, Volume 2
编辑：Werner Kern (Author), John L. Vossen (Editor)
出版社：Academic Press (1991年 5月 12日)
语言：英语
精装：888页
国际标准书号-10：0127282513
国际标准书号-13：978-0127282510

书籍购买链接

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