光学光刻现场指南 Field Guide to Optical Lithography

关于本书

本《实战指南》中的材料是 Chris Mack 在过去 20 年中整理的材料提炼而成，包括他在德克萨斯大学奥斯汀分校研究生平版印刷课程的笔记。本领域指南详细介绍了光刻工艺、图像形成、光刻胶成像、光刻胶化学以及光刻控制和优化。还包括对下一代光刻技术的介绍，以及广泛的光刻词汇表和对光刻行业参与者至关重要的突出方程的总结。

内容

- 符号词汇表
- 光刻过程
- 图像形成
- 成像到光刻胶中
- 光刻胶化学
- 光刻胶控制和优化
- 方程式总结
- 词汇表
- 索引

基本信息

书名：Field Guide to Optical Lithography
编辑：Chris A. Mack (Author)
出版社：SPIE Publications; 第 1st 版 (2006年 1月 23日)
语言：英语
螺旋装帧：136页
国际标准书号-10：0819462071
国际标准书号-13：978-0819462077

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