微光刻、微加工和微加工手册。第 1 卷：显微光刻术（SPIE 出版社专著第 PM39 卷） Handbook of Microlithography, Micromachining, and Microfabrication. Volume 1: Microlithography (SPIE Press Monograph Vol. PM39)

与 IEEE 共同发布。动态的光刻领域需要一本权威的工艺开发和生产手册，以帮助培训科学家和工程师。它包含过程详细信息、配方、表格、图表等，可用作参考书或教科书。

- 前言
- 简介
- 光学光刻
- 电子束光刻
- X 射线光刻
- 深紫外光刻技术
- 光掩模制造程序和限制
- 光刻中的计量方法
- 光学光刻建模
- 量子效应器件制造的
纳米光刻问题 - 索引

书名：Handbook of Microlithography, Micromachining, and Microfabrication. Volume 1: Microlithography (SPIE Press Monograph Vol. PM39)
编辑：Harry J. Levinson (Author), Mark A. McCord (Author), Franco Cerrina (Author), Robert D. Allen (Author), John G. Skinner (Author), Andrew R. Neureuther (Author), Martin C. Peckerar (Author), F. Keith Perkins (Author), Michael J. Rooks (Author), P. Rai-Choudhury (Editor)
出版社：Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers （1997年 3月 14日）
语言：英语
精装：768页
国际标准书号-10：0819423785
国际标准书号-13：978-0819423788