《Nanofabrication：Principles, Capabilities and Limits》是一本关于纳米制造技术和流程的实用指南。它首次出版于2008年，现在是更新的第三版。这本书向读者介绍了纳米制造技术的基础知识和最新发展，包括光学光刻、电子束光刻、纳米压印光刻，以及通过聚焦离子束、扫描探针、自组装的纳米加工和通过蚀刻和沉积进行的纳米尺度图形转移的章节。还有一章描述了各种技巧，这些技巧使得制造使用传统方法无法实现的纳米结构成为可能。这本书的独特之处在于，介绍的每种技术不仅涉及其能力，还包括其短处，以便读者能够从书中涵盖的纳米制造工艺工具箱中选择适合于自己使用的最佳选项。包含工业应用和科学研究中遇到的大多数纳米加工技术。
提供实际应用信息大于理论分析，大量实例来自从作者自己的研究成果和公开发表的科技文献。
利用大量作者仿真程序模拟结果帮助理解各种光刻技术的原理。
预测集成电路（IC）发展趋势的摩尔定律已经适用了近60年。但2016年2月《自然》杂志上发表了一篇文章，标题是“摩尔定律下的芯片不行了”。显然IC芯片的最小尺寸不可能永远缩小，当时预测摩尔定律将在2020年代初结束，但自那时以来，IC行业提出了一种新的摩尔定律解释方式。目前摩尔定律下3纳米节点IC的实际最小图形尺寸是12纳米（见本书第11章第11.2节）。感谢在过去8年中纳米加工技术的进步，例如大数值孔径极紫外（EUV）光刻技术（见本书第2章），制造这一节点的集成电路芯片是完全可能的。现在看来，摩尔定律至少在未来15年内仍然可行！尽管IC制造代表了纳米制造的顶峰，但只有一小部分人真正参与这个领域，因为全世界只有少数公司能够从事这样昂贵的产业。这本书的大多数读者可能在IC制造之外的不同科研领域工作。与本书第二版一样，新版继续保持了对纳米技术介绍的广泛覆盖。大多数技术，无论是在产业应用还是在科学研究中可能遇到的，都包括在内，从各种自上而下的光刻和图形转移到各种自下而上的自组装方法。还有专门讨论聚焦离子束、纳米压印和扫描探针加工的章节。这本书独有的内容是关于间接纳米加工，该章介绍了许多通常被称为“技巧”的非传统技术。正如书名所示，本书是关于这些纳米制造技术的原理、能力和限制，这应该对广大纳米制造从业者和新手都有所帮助和启发。
书籍链接 https://link.springer.com/book/10.1007/978-3-031-62546-6
崔铮
2024年11月
