Heidelberg Instruments 首台 NanoFrazor 光刻机落地洛桑联邦理工学院

瑞士苏黎世讯 —— 继 2024 年模块化 NanoFrazor 纳米光刻系统成功推出后，Heidelberg Instruments（海德堡仪器公司）自豪宣布最新款 NanoFrazor 正式完成安装。该系统搭载全新模块，可实现并行化热扫描探针光刻（t-SPL），其 β 版测试站点由瑞士洛桑联邦理工学院（以下简称EPFL）作为研究合作伙伴负责运营。此次安装标志着双方在推动下一代纳米制造技术落地应用的合作中迈出重要一步，有望为纳米级研究与应用领域带来突破性进展。

该系统专为低至 20 纳米的高分辨率光刻设计，兼具应用灵活性与高吞吐量优势，核心特性包括 10 个加热探针同步工作的并行化 t-SPL 技术、直接激光升华（DLS）模块及先进自动化功能。Heidelberg Instruments Nano AG 首席技术官 Emine Cagin 博士表示：“并行化 t-SPL 是热纳米光刻技术发展的必然下一步，但实现过程极具挑战性。” 她补充道：“并行化技术历经十年研发，最终形成一套全新的可扩展电子与软件框架，为新款 NanoFrazor 提供核心动力。”

这款名为 “Decapede” 的全新模块，能在不损失高分辨率性能的前提下，将系统吞吐量提升至原来的十倍。EPFL 微系统实验室博士后研究员 Berke Erbas 指出：“随着吞吐量的提升，我们正考虑将灰度纳米表面从芯片级扩大至晶圆级，实现二维材料的确定性局部应变工程，为潜在的工业集成铺路。同时，我们也计划扩大通过 t-SPL 和干法蚀刻技术制造的灰度纳米压印光刻模板的规模。”

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创新枢纽：EPFL

EPFL 在 t-SPL 技术领域的深厚造诣与广泛的纳米制造能力，使其成为理想的 β 版测试站点，同时也标志着其与海德堡仪器公司长期互信的合作关系持续深化。参与该项目的多个研究团队，不仅汇聚了 t-SPL 技术的专业知识与多样化纳米制造技术经验，更带来了新颖理念与高难度应用需求。EPFL 承诺将持续提供反馈，助力海德堡仪器公司进一步验证系统性能并优化用户界面。

从纳米电子学到量子器件：未来展望

EPFL 的 β 版测试站点不仅是系统性能的测试与验证平台，更是推动纳米光刻技术创新的核心催化剂。该站点的应用领域涵盖纳米电子学、等离激元学、量子器件及生物纳米传感器等多个方向。EPFL 微工程与材料科学教授于尔根・布鲁格（Jürgen Brugger）强调：“t-SPL 技术因其快速原型制造能力，能让研究人员在短时间内轻松创建纳米图案，已成为培养青年科研人员的优质工具。我们对拓展其并行写入功能充满期待。” 例如，能源技术纳米科学实验室（LNET）的朱莉娅・塔利亚布（Giulia Tagliabue）教授正利用该系统的灰度功能开发先进超表面，实现纳米尺度的强光约束，应用于能量转换及界面过程探测等领域。

我们期待该 β 版测试站点能加速纳米科学领域的探索进程，为纳米级科研及 NanoFrazor 系统的教育应用开辟更多新可能。

关于 Heidelberg Instruments

海德堡仪器公司拥有超过 40 年行业经验，其系统已在全球 50 多个国家安装部署逾 1500 台，是高精密激光光刻系统、无掩模光刻机及纳米制造工具设计、研发与生产领域的全球领导者。公司产品组合覆盖从紧凑型桌面解决方案到高端光掩模制造设备，凭借高度灵活性，成为全球顶尖大学、研发机构及工业设施不可或缺的核心设备。该系列系统可实现微米级与纳米级的精准表面结构化，支持二维图案制作及通过灰度光刻技术实现的 2.5D 结构制造，广泛应用于光子学与微光学、电子学、半导体、量子技术、微机电系统（MEMS）、微流体、二维材料等多个领域。

资讯来源：Optics.org