韩国公司击败蔡司，将向日本巨头供应EUV掩模检测设备

据韩国科技媒体TheElec报道，韩国晶圆制造设备制造商ESOL已与日本最大的光掩模制造商达成协议，将为其提供一套极紫外（EUV）掩模检测设备。消息人士称，这家FST旗下子公司在8月份击败德国巨头蔡司，赢得了这份柔性光线极紫外显微镜（FREM）的订单。

ESOL已收到定金，目前正在日本公司的工厂内安装和准备这台机器。该机器价值数千万美元。这家日本光掩模制造商预计将使用这台机器来检测Rapidus公司2纳米节点所需的掩模。

图片来源：ESOL

光掩模上绘制有半导体电路图案。它们被放入光刻机中，将这些图案绘制到晶圆上。有缺陷的光掩模会对晶圆厂的良率造成严重损害。

ESOL 的 FREM 用于检测 EUV 光掩模上的微缺陷。它在掩模放入光刻机之前使用。FREM 模拟 EUV 光刻机的光学条件——包括 EUV 光源、拍摄角度和数值孔径 (NA)——以便预先拍摄图像，检查其是否正确。它检测的是那些可能直接影响图像拍摄的缺陷。

如果没有 FREM，制造商检查光掩模是否无缺陷的唯一方法是将其放入光刻机中。

消息人士称，ESOL 经过一年半的严格评估，击败了德国蔡司和另一家美国 EUV 设备公司，最终赢得了该订单。

蔡司目前在掩模检测设备领域几乎处于垄断地位——其AIMS EUV 3.0被誉为该领域的“行业标准”。其低数值孔径（NA，0.33）版本已实现商业化，并可响应高数值孔径（NA，0.55）的需求。消息人士称，ESOL的FREM设备规格与AIMS EUV 3.0相当，同样可以响应高数值孔径需求。

他们表示，与竞争对手的设备相比，该设备更低的维修和维护成本也是这家日本巨头选择它的重要原因之一。其他设备使用等离子体作为光源，这会导致大量粒子的产生。这意味着它们需要定期更换过滤器，每年可能花费数十万美元。

ESOL公司使用激光作为光源——虽然激光可以减少粒子的形成，但其能量相对较弱。这家韩国公司利用反射光学技术，使这种能量较弱的光源也能达到与等离子体相同的效果。 

与此同时，ESOL 此前曾向三星提供过扫描反射式 EUV 显微镜 (SREM)，其功能与 FREM 相同。

生产极光光刻胶片和冷却器的FST持有ESOL 38.14%的股份。ESOL成立于2018年，首席执行官金炳国(Kim Byung-gook)曾就职于三星芯片业务部门。今年7月，ESOL在B轮融资中筹集了740亿韩元。