Advantest推出先进掩模CD-SEM“E3660”，满足为2纳米及以下节点需求

东京，2025年9月9日——领先的半导体测试设备供应商爱德万测试株式会社（Advantest，TSE：6857）今日宣布推出其新一代CD-SEM* E3660，专为尖端半导体制造中使用的光掩模和EUV掩模的尺寸计量而设计。与上一代E3650相比，E3660的CD再现性提高了20%以上，使工艺工程师能够满足2纳米及以下节点掩模制造的严格要求。通过加强先进器件制造中的光刻工艺控制，E3660进一步推进了爱德万测试为整个半导体价值链提供整体测试解决方案的愿景。

在尖端半导体器件制造中，尺寸的不断缩小和图案的复杂性导致光刻热点（多重图案化和图案转移过程中特别容易出错的位置）急剧增加。用于形成晶圆电路的掩模版不断发展，层数不断增加，几何形状也更加复杂。这反过来又显著增加了所需量测站点的数量，要求测量系统既具备更高的吞吐量，又具有卓越的可重复性。

得益于多光束掩模刻写和高性能计算技术的进步，业界也正在向曲线掩模图案转型。随着高数值孔径EUV光刻技术在器件生产中的应用，预计这些图案将在2027年左右实现大规模部署。为了确保在这些条件下从设计到掩模的保真度，CD-SEM不仅必须提供高度可重复的关键尺寸测量，还必须生成与真实图案轮廓保真度更高的SEM图像。此外，计量解决方案必须不断发展，以纳入能够量化复杂掩模特征与原始设计意图之间偏差的曲率敏感算法。

在开发 E3660 之前，爱德万测试与世界领先的纳米电子和数字技术研究与创新中心比利时微电子研究中心 (IMEC) 合作，验证了“E3650”获得的 CD-SEM 结果与爱德万测试上一代 CD-SEM 结果以及基于 EDA 的参考数据的相关性。此举不仅提升了计量可靠性，还与比利时微电子研究中心合作，推进了针对曲线几何形状的新型测量技术的开发和验证。E3660 平台体现了此次合作的成果，实现了 2 纳米节点掩模制造所需的可重复性，实现了高通量测量以处理不断增加的点数，并提供了针对曲线图案的独特测量功能。

通过集成这些功能，E3660 能够为下一代掩模研发和生产环境提供强大的计量支持。

爱德万测试最初将 E3660 部署在商业光罩工厂（Merchant Mask Shops，商业光罩制造商为外部客户生产光罩）和自营光罩工厂（Captive Mask Shops，半导体制造商的内部光罩生产设施）。此举将 E3660 确立为先进光罩开发和生产认证的核心评估工具。

*临界尺寸扫描电子显微镜（CD-SEM）：专门用于对半导体晶圆和掩模上的精细图案尺寸进行高精度测量的电子显微镜。

关于爱德万测试公司

Advantest (TSE: 6857) 是领先的自动测试与测量设备制造商，其产品用于半导体的设计和生产，应用领域涵盖 5G 通信、物联网 (IoT)、自动驾驶汽车、高性能计算 (HPC)、人工智能 (AI) 和机器学习等。其领先的系统和产品被集成到全球最先进的半导体生产线中。公司还开展研发工作，以应对新兴的测试挑战和应用；开发用于晶圆分类和最终测试的先进测试接口解决方案；生产光掩模制造所必需的扫描电子显微镜；并提供系统级测试解决方案和其他测试相关配件。Advantest 成立于 1954 年东京，是一家全球性公司，在世界各地设有分支机构，并致力于可持续发展实践和社会责任。更多信息，请访问 www.advantest.com。