三星冲刺国产EUV空白光罩认证，韩国S&S Tech有望年内供货

核心进展：

据TheElec独家获悉，韩国光罩制造商S&S Tech生产的极紫外光刻（EUV）空白光罩，已接近获得三星电子的最终使用批准。三星电子目标在今年内实现EUV空白光罩的本地化采购。

目前，三星正在其实际制程环境中测试S&S Tech提供的EUV空白光罩样品，并严格检查缺陷情况。最终的品质评估预计将在2025年下半年完成。

里程碑意义：

若S&S Tech的空白光罩成功通过认证，这将成为韩国企业在EUV关键材料领域实现商业化生产的第二例。此前，东进世美肯（Dongjin Semichem） 已成功量产用于EUV工艺的光刻胶（PR）。

三星的迫切需求：

消息人士透露，三星半导体光刻团队对实现EUV空白光罩的本土化采购有着强烈意愿。其目标在于：

1. 降低对日本Hoya的依赖： 目前三星使用的EUV空白光罩绝大部分采购自这家日本巨头。

2. 保障供应稳定： 过去因日本地震等因素，三星曾多次面临光罩供应中断的困境（Hoya为此在新加坡建立了工厂）。

3. 降低成本： 增加S&S Tech作为供应商，有望优化采购成本。

三星在EUV光刻胶领域已推动日本供应商在韩国建厂，但空白光罩制造商尚无类似举措，这仍是三星持续担忧的问题。

备选方案与支持：

消息人士称，即使S&S Tech未能通过认证，三星也有“B计划”——采购全球第二大空白光罩制造商旭硝子（Asahi Glass, AGC） 的产品。不过，他们认为S&S Tech的产品极有可能最终获批。

为支持S&S Tech，三星已介入关键设备采购：S&S Tech于去年12月向日本Lasertec订购了单价高达417亿韩元（约合3000万美元） 的EUV光罩检测设备。面对Lasertec的订单积压，三星出面协调，要求其优先处理S&S Tech的订单。该设备预计将于10月运抵S&S Tech位于韩国龙仁市的新工厂。

空白光罩与EUV技术挑战：

• 空白光罩（Blank Mask） 是制造光罩（Photomask） 的基础材料。光罩用于芯片生产的光刻环节，将电路图案转移到晶圆上。空白光罩是在高纯度玻璃基板上沉积金属或化学薄膜而成，芯片制造商购买后将其加工成光罩。

• EUV空白光罩 vs. DUV空白光罩： 两者结构差异巨大。

  • DUV（深紫外）光罩： 采用透射式（Transmissive） 原理，光线穿过光罩在晶圆上成像。

  • EUV（极紫外）光罩： 采用反射式（Reflective） 原理，光线从光罩表面反射成像。其结构是在基板上交替沉积40层钼（Mo）和硅（Si） 的超精密镀膜。

• 严苛的检测要求： EUV波长极短，微米级缺陷即可能导致失败，因此必须使用Lasertec等厂商的高端检测设备。

经济价值与S&S Tech前景：

• 高单价： 每片EUV空白光罩成本高达数万美元。三星认为，实现部分本土化采购可节省数千万美元成本并缩短交货周期。

• S&S Tech业务增长： 除EUV外，受益于中国晶圆厂建设热潮，S&S Tech的DUV空白光罩订单也在激增。韩国分析师预计，S&S Tech今年营收将达到2200亿韩元（约合1.6亿美元），同比增长30%，营业利润率有望从当前的10%中段提升至20%。

（注：文内图片为示意图，源自Hoya官网）
来源： TheElec