Inprentus公司将衍射光栅推向全球市场

“Inprentus 为我们推动美国科技进步和制造业就业增长的历史感到自豪。我们将继续在闪耀高精度衍射光学领域保持全球领先地位。”— Inprentus 首席执行官 Jeff MacDonald

美国伊利诺伊州香槟市，2025 年 6 月 10 日 / EINPresswire.com / -- Inprentus由伊利诺伊大学物理学教授 Peter Abbamonte 于 2012 年创立，旨在将一种生产闪耀机械刻划衍射光栅的新颖方法商业化。衍射光栅用于各种光学应用，本质上充当棱镜，将光调整为其波长分量。Abbamonte 教授提出了一种新颖的制造方法，可以以可重复的方式生产高精度光栅。Inprentus

最初获得了一项小企业创新研究 (SBIR) 拨款，这是美国政府承诺投资小企业创新并展示对美国技术进步和商业化努力的支持的一部分。这项 SBIR 拨款对于 Inprentus 开发其突破性的技术和生产基础设施、建立测试和改进合作伙伴关系、吸引私营部门投资以及最终成功将新颖的衍射光栅生产方法商业化至关重要。

“SBIR项目对Inprentus这样的科技公司至关重要，因为它让小型企业能够获得研究资金，”Inprentus创始人Peter Abbamonte解释道。“通过这项SBIR投资，Inprentus最初的研发工作增强了美国的技术专长，促进了制造业经济，并促进了中西部制造业就业的增长。”

如今，Inprentus在美国中西部中心地带拥有一座11,000平方英尺的生产基地，拥有由科学家、工程师、技术人员和支持人员组成的专业团队，致力于实现公司的愿景。Inprentus的闪耀光栅以其先进的特性而著称，例如：闪耀角范围广、线距可变、分辨率高、线密度高达6000线/毫米、损伤阈值高以及尺寸灵活。

自成立以来，Inprentus 一直致力于履行 SBIR 的使命，将其突破性的衍射光栅销售给五大洲的众多国际政府研究机构。在美国，Inprentus 已向伯克利先进光源（11 个光栅）、布鲁克海文国家实验室（5 个光栅）、斯坦福线性加速器（7 个光栅）和阿贡国家实验室（1 个光栅）等机构交付产品。在欧洲，客户包括瑞士保罗谢勒研究所（1 个光栅）、德国欧洲 X 射线自由电子激光器（3 个光栅）和西班牙 Laboratorio de Luz de Sincrotron（6 个光栅）。在南美，Inprentus 已向 Laboratorio Nacional de Luz Sincrotron 交付了 4 个光栅。在亚洲，客户包括韩国浦项国家加速器（1 个光栅）、上海 X 射线自由电子激光器（1 个光栅）、上海 SHINE（1 个光栅）、国家同步辐射实验室（3 个光栅）、上海同步辐射装置（3 个光栅）和日本东北同步辐射光源（2 个光栅）。此外，Inprentus 还为澳大利亚、英国、奥地利、斯洛伐克和日本的增强现实、EUV、DUV 和光谱市场的私营部门客户提供服务。

Inprentus首席运营官苏巴·库马尔（Subha Kumar）解释说：“虽然我们也服务于国内市场，但如果没有国际客户日益增长的需求，我们的业务就无法增长。来自国际合作伙伴的订单帮助我们维持业务，并使我们能够通过市场改进和完善我们的技术。” “不幸的是，由于我们依赖国际客户群，报复性关税可能会对我们的业务产生负面影响。” Inprentus临时首席执行官杰夫·麦克唐纳（Jeff MacDonald）表示：“Inprentus为我们推动美国技术进步和制造业就业增长的历史感到自豪。我们将继续在闪耀高精度衍射光学领域保持全球领先地位。” “常识性的贸易政策将帮助像 Inprentus 这样的公司继续主导世界市场”

Mechanical Ruling（机械刻划）技术

Inprentus 使用新型纳米级接触模式光刻技术（机械刻划）制造闪耀 X 射线衍射光栅，该技术每毫米可刻划数千条线，提供各种应用中衍射光栅所需的超高精度。Inprentus 可以刻划闪耀角小于 1 度的光栅线，精度为 0.1 度或更高，无需离子铣削或其他后处理。Inprentus 开发的新型干涉测量技术使光栅线的定位精度优于 20 纳米，距离为 10 厘米或更大。利用这项技术，Inprentus 可以创建分辨率高达 50,000 的光栅，这对于机械刻划衍射光栅来说是前所未有的。Inprentus 衍射光栅是增强现实 (AR) 应用、半导体制造以及材料、化学和生命科学研究的核心组件。 

精密工具将金属塑造成三角形刻面。无需移除任何材料，每次只划出一条线。Inprentus 每天可以自动化划出 15,000 条线。

Inprentus 公司

Inprentus由伊利诺伊大学香槟分校物理学教授 Peter Abbamonte 于 2012 年 6 月创立，旨在将一项创新的双原子显微镜划刻技术商业化，该技术通过金属表面的机械变形进行纳米级光刻。该技术是一种通用的表面高精度图案化方法，特别适合衍射光学，其中特征必须以 0.1 度的角度精度成形，并以纳米精度定位在几十厘米的距离上。Inprentus

旨在应用 21 世纪的机械裁定来解决当前和未来以光栅为中心的关键挑战。我们致力于卓越、冒险和突破界限，提供性能达到前所未有的规格并能够实现新颖应用的最先进的闪耀光栅。成果包括国防应用领域的下一代单色仪、光谱仪、激光系统和分析仪器，以及通过芯片制造和透明AR波导技术的改进所带来的突破性消费者体验。Inprentus致力于通过尖端研发、合作与伙伴关系不断提升自身能力，从而推动下一代科学技术的发展。