海德堡仪器推出全新模块化且速度提升10倍的 NanoFrazor 纳米光刻工具

近日，海德堡仪器宣布推出其全新的 NanoFrazor 纳米光刻系统，该系统将微纳制造领域的数十年专业经验推向了新的高度。这款多功能工具专为高分辨率、灵活性、吞吐量和模块化设计，可配备十个并行图案化悬臂，显著提升生产效率。

NanoFrazor结合了热扫描探针光刻（t-SPL）、激光直接照射升华(DLS)和增强的自动化功能，支持量子器件、一维/二维材料以及纳米级电子学领域的尖端研究，同时适用于纳米光子学、超材料和纳米流体力学等领域的应用。

NanoFrazor的核心是一个超锋利的可加热探针尖端，能够实现纳米结构的精确图案化，横向分辨率高达15纳米，垂直分辨率低至2纳米。其原位检测系统提供闭环光刻（CLL），支持无标记叠加和实时调整，确保即使是最复杂的灰度图案也能实现低于2纳米的垂直精度。这一突破性特性使得光子学、仿生基底以及通过热诱导化学反应或相变进行局部材料改性等领域的高级应用成为可能。

主要特点：

1.热扫描探针光刻（t-SPL）：为关键纳米器件组件提供高精度图案化。

2.模块化：NanoFrazor的可配置平台可根据应用和实验室需求提供定制解决方案。随着研究的进展，可以安装额外的模块和升级，提供灵活性和可扩展性。

3.分辨率与吞吐量：通过采用10个独立的热悬臂，新的Decapede模块将吞吐量提高了十倍，实现了速度与分辨率的兼顾。

4.混合搭配光刻：NanoFrazor支持直接激光升华（DLS）模块，用于实现更快的微米级分辨率写入，非常适合接触线和大面积焊盘等图案。

NanoFrazor源自IBM苏黎世研究实验室数十年的研发成果，并在海德堡仪器纳米部门持续演进。一个包含蚀刻、剥离和其他工艺最佳实践的全面库，确保用户能够在各种应用中优化其成果。

文章来源：Heidelberg Instruments Launches New Modular and 10x Faster NanoFrazor Nanolithography Tool