新书推荐 | 崔铮《Nanofabrication：Principles, Capabilities and Limits》

关于本书

《Nanofabrication：Principles, Capabilities and Limits》是一本关于纳米制造技术和流程的实用指南。它首次出版于2008年，现在是更新的第三版。这本书向读者介绍了纳米制造技术的基础知识和最新发展，包括光学光刻、电子束光刻、纳米压印光刻，以及通过聚焦离子束、扫描探针、自组装和通过蚀刻和沉积进行的纳米级模式转移的章节。还有一章描述了各种技巧，这些技巧使得制造使用传统方法无法实现的纳米结构成为可能。这本书的独特之处在于，介绍的每种技术不仅涉及其能力，还包括其限制，以便读者能够充分了解从书中涵盖的纳米制造工艺工具箱中选择最佳选项。

序言

自这本书的第二版出版以来，已经过去了八年，而自2008年第一版出版以来，已经过去了16年。Springer告诉我，到2023年4月底，这本书已经售出近800本，加上通过Springer Link全球教育和学术用户的41,000次下载，考虑到纳米制造是一个相对狭窄的工程学科领域，这并不算坏。去年5月，Springer的编辑邀请我写第三版。我认为现在是更新这本书的时候了，因为自第二版出版以来，纳米制造技术发生了很多变化。

在过去的八年中，最重要的发展是摩尔定律的复兴，这是预测集成电路（IC）趋势的法则，已经超过60年。我记得2016年2月《自然》杂志上发表的一篇文章，标题是“摩尔定律的芯片不行了。”尽管自然会想到IC的特征尺寸不能永远缩小，当时预测摩尔定律将在2020年代初结束，但自那时以来，IC行业提出了一种新的摩尔定律解释方式。目前的“3纳米代IC”（摩尔定律）实际上只需要有12纳米的最小半间距特征就可以制造（第11章第11.2节），这完全可能，感谢在过去8年中发生的纳米制造进步，即高NA EUV光刻（第2章）。现在看来，摩尔定律至少在未来15年内仍然可行！

尽管IC制造代表了纳米制造的顶峰，但只有一小部分人真正参与这个领域，因为全世界只有少数公司能够承担这样昂贵的业务。这本书的大多数读者可能在IC制造之外的不同领域工作。与上一版一样，新版继续保持了纳米制造的广泛覆盖。大多数技术，无论是在工作中还是在科学文献中可能遇到的，都包括在内，从各种自上而下的光刻和模式转移到各种自下而上的自组装方法。还有专门讨论聚焦离子束、纳米压印和扫描探针制造的章节。这本书独有的内容是关于间接纳米制造的，它介绍了许多通常被称为“技巧”的非传统技术。正如书名所暗示的，它是关于这些纳米制造技术的原理、能力和限制，这应该对广泛的纳米制造从业者和新手有所帮助和启发。

在过去的八年中，我的职业生涯再次发生了重大变化。自2020年以来，我从中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所的职位上退休。尽管我没有完全切断与研究所的联系，现在担任顾问，但一个好处是我有大量时间来从事第三版的工作。有了时间，我仔细阅读了过去和现在的文献，并仔细审查了第二版的所有章节。第三版不仅包含了最新的信息和新知识，还重新调整了一些观点的角度。同时，我现在更多地参与工业，通过参与一些初创公司，这使我能够以新的视角看待我熟悉的纳米制造技术。所有这些都帮助我完善了第三版。

最后，我衷心感谢我工作过的研究所和所有资助机构，他们在过去和现在给了我机会、资源和平台。我还要感谢我的妻子玲，她忍受了我埋头于书的时间。

中国苏州 崔铮2024年3月

关键词

增材纳米制造、电子束光刻、间接纳米加工、微加工、纳米制造、纳米图案化、纳米压印、纳米级图形转移、自组装纳米结构、光学平版印刷术、扫描探针纳米制造

关于作者

崔铮于1988年在中国获得博士学位，并于1989年前往英国剑桥大学微电子研究中心担任访问学者。1993年，他成为英国卢瑟福阿普尔顿实验室中央微结构设施的高级科学家，后来成为首席科学家。2009年，他回到中国，加入中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所，并在那里建立了印刷电子研究中心。2020年，他从研究所退休，但一直担任顾问。现在，他更多地参与纳米制造的工业应用，在多家初创公司中担任关键角色。

著录链接

https://link.springer.com/book/10.1007/978-3-031-62546-6