磁控溅射技术是什么？

磁控溅射技术属于PVD（物理气相沉积）技术的一种，是制备薄膜材料的重要方法之一。

磁控溅射设备使得镀膜厚度及均匀性可控，且制备的薄膜致密性好、粘结力强及纯净度高，设备应用跨越多个技术，代表着国产集成电路薄膜制备工艺设备的较高水平，适用于集成电路IC、功率器件、半导体照明LED、先进封装、模具、各行业零配件等。